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全自動(dòng)FOG邦定生產(chǎn)線
全自動(dòng)FOG邦定生產(chǎn)線是LCM生產(chǎn)工序的關(guān)鍵設(shè)備。主要是將FPC與LCD邦定的設(shè)備,可實(shí)現(xiàn)單邊、多邊和多FPC的邦定。

物理氣相沉積設(shè)備 PVD
磁控濺射技術(shù)屬于PVD(物理氣相沉積)技術(shù)的一種,是制備薄膜材料的重要方法之一。它是利用帶電荷的粒子在電場(chǎng)中加速后具有一定動(dòng)能的特點(diǎn),將離子引向被濺射的物質(zhì)制成的靶電極(陰極),并將靶材原子濺射出來使其沿著一定的方向運(yùn)動(dòng)到襯底并在襯底上沉積成膜的方法。磁控濺射設(shè)備使得鍍膜厚度及均勻性可控,且制備的薄膜致密性好、粘結(jié)力強(qiáng)及純凈度高。該技術(shù)已經(jīng)成為制備各種功能薄膜的重要手段。 

化學(xué)氣相沉積設(shè)備 CVD
化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術(shù)。在典型的CVD工藝過程中,把一種或多種蒸汽源原子或分子引入腔室中,在外部能量作用下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并在襯底表面形成需要的薄膜。由于CVD技術(shù)具有成膜范圍廣、重現(xiàn)性好等優(yōu)點(diǎn),被廣泛用于多種不同形態(tài)的成膜。

多線切割機(jī)
針對(duì)磁性材料片材切割需求設(shè)計(jì)的一款專用機(jī)型。它的推出適應(yīng)了客戶對(duì)加工效率、運(yùn)行穩(wěn)定性、工藝適用性及經(jīng)濟(jì)性的更高要求,該機(jī)型在保證了高精度、 高可靠性的前提下,實(shí)現(xiàn)了加工效率的顯著提升。

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